Neuer natürlicher Sonnenschutz aus Reiskleie
Japanischem Unternehmen gelang eine Formulierung mit hoch konzentrierter Ferulasäure
Das Chemieunternehmen Tsuno Group hat nach eigenen Angaben eine neue Sonnenschutzformel auf Basis von Ferulasäure entwickelt und zum Patent angemeldet. Ferulasäure ist für ihre antioxidativen, entzündungshemmenden und antimikrobiellen Eigenschaften bekannt. Sie hemmt die Melaninproduktion, indem sie die Aktivität des Tyronase-Enzyms blockiert. Daher kommt die Ferulasäure bereits in kosmetischen Anwendungen zum Einsatz. Doch ihre Stabilität und Löslichkeit in hohen Konzentrationen galt bislang als komplex. Dem japanischen Hersteller, spezialisiert auf die großtechnische Herstellung von Ferulasäure, soll dies nun gelungen sein.
Der pflanzliche Sonnenschutz soll petrochemische UV-Filter überflüssig machen
Gemeinsam mit dem Anbieter von Inhaltsstoffen Matsumoto Trading entwickelte das Unternehmen eine Technologie, mit deren Hilfe ein UV-Absorber mit hoch konzentrierter Ferulasäure in Stick-Form gefertigt werden kann. Der Sonnenschutz verfügt über LSF 50+ und PA++. Dadurch entstand den Partnern zufolge ein pflanzliches Sonnenschutzmittel, das die üblichen petrochemischen UV-Filter wie Ethylhexylmethoxycinnamat (EHMC) überflüssig machen soll. Ferulasäure wird aus Reiskleie gewonnen.
Ferulasäure absorbiert UV-Strahlen in vergleichbarem Spektrum wie EHMC
Tsuno verweist auf aktuelle Studien, die negative Auswirkungen von EHMC auf die aquatische Umwelt belegen. Dazu gehört unter anderem das Ausbleichen von Korallen. Da Ferulasäure laut dem Hersteller UV-Strahlen in einem vergleichbaren Spektrum absorbiert, sieht dieser den natürlichen Wirkstoff als umweltfreundliche Alternative zu EHMC.
Quelle: Tsuno Group
